集成电路布图设计专有权（以下简称“布图设计权”）与专利权是两种不同的知识产权保护制度。主要区别在于：1. 保护对象：专利权保护发明创造的技术方案（方法、产品等）；布图设计权保护集成电路中元件和互连线路的三维配置（布局），不保护思想、处理过程或制造工艺。2. 保护要件：发明专利需具备新颖性、创造性、实用性；布图设计需具有独创性（是创作者自己的智力劳动成果）且在创作时对布图设计创作者和集成电路制造者来说不是常规设计。3. 取得方式：专利权需经实质审查后授权；布图设计权实行登记制，申请经初步审查合格后即可登记颁证。4. 权利内容：专利权有制造、使用、许诺销售、销售、进口等权利；布图设计权有复制和商业利用（含进口、销售等）的权利。根据《集成电路布图设计保护条例》第十二条，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。